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地址: 青島市膠州市上合示范區(qū)閩江路60號(hào)
設(shè)備名稱:手動(dòng)紫外光刻機(jī) 品牌型號(hào) ABM
設(shè)備用途
光刻機(jī)發(fā)出的紫外光通過具有特定圖形結(jié)構(gòu)的掩膜版對(duì)樣片曝光,然后通過顯影將掩膜版上的圖形結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到樣片表面的光刻膠上。
主要技術(shù)指標(biāo):
曝光波長:350nm---450nm
可加工尺寸:2inch 3inch晶圓和≥1.5cm2碎片
極限分辨率:3um
正面套刻精度:≤1um
線寬均一性:≤3%
曝光模式:接觸式曝光、接近式曝光